Численное моделирование контактного взаимодействия жесткого сферического штампа и двухслойного полупространства проводилось в среде программного пакета для инженерных расчетов ANSYS. Геометрические и сеточные модели объектов построены в препроцессоре ANSYS и показаны на рис.1,2.
В силу симметрии рассматривалась двумерная осесимметричная модель.
Сеточная модель содержит слой покрытия конечной толщины связанный узел в узел с полубесконечным слоем основания.
Контактная поверхность жесткого штампа описывалась геометрически отрезком дуги окружности заданного радиуса.
Между штампом и материалом слоя задавалось условие контакта с нулевым коэффициентом трения.
Толщина покрытия изменялась в пределах 0<h/a0<10, где а0 - предельный радиус контакта, рассчитываемый для среды с характеристиками материала основы.
Погрешность вычислений оценивалась путем сравнения результатов, полученных в ANSYS, и аналитических расчетов проведенных для двух предельных случаев, когда полупространство состоит только из материала основы или материала покрытия.
Сходимость решения и погрешность вычислений оценивались так же путем сравнения результатов вычислений, проведенных для геометрически одинаковых моделей с использованием сеточных моделей с различным размером элементов.
Расчетная погрешность составила около 1%.
Расчеты проведены для двух комбинаций упругопластических свойств покрытия и основания: жесткое покрытие на податливом основании и податливое покрытие на жестком основании.
В результате получены поля напряжений рис.3,4, осевые и радиальные распределения напряжений рис.5-8, зависимости несущей способности и предельной глубины внедрения штампа от толщины слоя покрытия в заданном диапазоне изменения толщины покрытия.
![]() |
![]() |
| Рис.1 Геометрическая модель двухслойного полупространства и сферического штампа |
Рис.2 Сеточная модель двухслойного полупространства |
![]() |
![]() |
| Рис.3 Поле эквивалентных по Мизесу напряжений |
Рис.4 Поле осевых напряжений |
![]() |
![]() |
| Рис.5 Осевое распределение эквивалентных по Мизесу напряжений |
Рис.6 Осевое распределение осевых напряжений |
![]() |
![]() |
| Рис.7 Осевые распределения эквивалентных по Мизесу напряжений, осевых напряжений и среднего напряжения |
Рис.8 Радиальное распределение нормальных напряжений на контактной поверхности |